拓荆科技股份有限公司（以下简称“拓荆公司”或 “公司”）成立于2010年4月，于2021年1月12日整体变更为股份有限公司。公司位于辽宁省沈阳市浑南区，是由海外专家团队和中科院所属企业共同组建成立的国家高新技术企业，主要负责集成电路制造所需三大核心装备之一的薄膜沉积装备。 公司现主要拥有PECVD、ALD、SACVD三个薄膜设备产品系列，均拥有自主知识产权，可为客户提供具有竞争力的高端装备和高质量服务。公司现有产品广泛应用于集成电路前道和后道、TSV封装、光波导、LED、OLED显示等高端技术领域。 公司由十余名国际资深的半导体技术、管理专家组成海外专家团队，结合国内优秀人才，形成了一支近500人的专业队伍，具备高科技研发实力及管理经验，公司多次承担国家重大项目。公司曾多次获得中国半导体行业协会授予的“中国半导体设备五强企业”称号。 公司总部占地80亩、总建筑面积达40,000平方米，拥有现代化办公大楼及高等级洁净厂房、先进和完备的无尘实验室及系列高端薄膜实验设备，用以研制和生产科技领先的半导体薄膜设备。为加速企业发展，公司已在北京、上海、海宁建立了研发中心及分支机构。